化學(xué)清洗相關(guān)知識(shí)

1、化學(xué)清洗
在半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)中，化學(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和電器表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)助熔劑溶解被清洗物表面吸附的雜質(zhì)和油脂，或通過(guò)超聲波等物理措施使被清洗物表面的雜質(zhì)脫附，加熱，抽真空，然后使用大量高純度的冷熱去離子水沖洗，以獲得清潔的表面。
2.化學(xué)清洗的重要性
過(guò)程中的每一個(gè)實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問(wèn)題。化學(xué)清洗的質(zhì)量嚴(yán)重影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果。如果處理不當(dāng)，實(shí)驗(yàn)結(jié)果將不可用或不好。因此，明確化學(xué)清洗的作用和原理具有重要意義。眾所周知，半導(dǎo)體的一個(gè)重要特性是對(duì)雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬(wàn)分之一甚至少量的雜質(zhì)，就會(huì)影響半導(dǎo)體的物理性能。我們利用這一特性通過(guò)摻雜制造具有各種功能的半導(dǎo)體器件。然而，由于這一特點(diǎn)，給半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)帶來(lái)了麻煩和困難。使用過(guò)的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具、清洗水等都可能成為有害雜質(zhì)的污染源。即使干凈的半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中，也會(huì)造成明顯的雜質(zhì)污染。化學(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。
3、化學(xué)清洗的范圍
化學(xué)清洗主要包括三個(gè)方面：一是清洗硅片表面；二、清洗用過(guò)的金屬材料（如蒸發(fā)電極用鎢絲、蒸發(fā)墊用鉬片、蒸發(fā)源用鋁合金、鉻板用鉻等）；三是清潔工具和器具（如金屬鑷子、石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡膠制品等）。
4、工業(yè)化學(xué)清洗的應(yīng)用類別
化學(xué)清洗行業(yè)的發(fā)展不僅為全社會(huì)提供有效的技術(shù)服務(wù)，而且成為社會(huì)文明的重要標(biāo)志。隨著工業(yè)化和現(xiàn)代化的進(jìn)程以及社會(huì)生產(chǎn)和日常生活的需要，化學(xué)清洗得到了廣泛的應(yīng)用。